自從iPhone采用投射電容式觸摸屏以來，短時間內涌現了大量結構設計方案。投射電 容式觸摸屏的特點是，感應器在觸摸屏表面以下，外覆有保護玻璃。一些正在開發的新產品 采用了單面設計，即所有的感應層都設計在單一基板的一面上。

在這個目前最薄的投射電容 式觸摸屏設計中，每一層采用積層濺射工藝?；趦蓪油该鲗щ妼拥耐渡潆娙菔接|摸屏的基 本原理，在設計上可以作出各種變化。

例如，用超微細(lO^ni)導線可以替代某層，從而 少濺射一層ITO。目前市面上的絕大多數手機和簽名采集板在不同PET層上鍍有IT0,此外 常見的觸摸屏也是使用雙面鍍層或在兩層基板上單面鍍層的ITO鍍層玻璃。

(1) 膜層圖樣

在投射電容式觸摸屏中，ITO膜可以設計蝕刻成各式各樣，但制造成本是一樣的，并且 由于觸摸傳感器和電子控制系統的高度相關性，很難說哪種圖樣優于其他圖樣。

早期iPhone的投射電容式觸摸屏采用的圖樣是最簡單的一種：玻璃兩面的IT0前面蝕 刻成10列、線寬lram、間距5mm的列排列層，背面蝕刻成15行、線寬5mm、間距37^m 的行排列層，列排列層10列之間保留了不連線(孤立)的條以保持統一的光學效果。這種 設計對工藝要求簡單，但需要控制器的處理能力強以生成精確坐標。

最常見的圖樣是連鎖菱形(實為正方形45°斜放)，這種圖樣的電極島之間連接可靠 (連線最短)，且最大程度充分利用了屏幕面積來感應手指電容，菱形圖樣分成互補的兩層, 一層是水平菱形行，一層是垂直菱形列，導線交叉部位像小橋。

菱形島的尺寸大小取決于制 造商，通常在4 ~8mm之間，目前大部分投射電容式觸摸屏都采用菱形圖樣。

(2) 觸摸屏導體方塊電阻通常采用15011/口(單位為n/(m2*mil))的ITO涂層玻璃加工，要形成線 寬20pm的圖樣，需要用光蝕刻技術完成，比如在LCD面板廠工藝上使用的光刻消融劑。

ITO越厚，電阻越小，信噪比越好，但是透光率差;反之ITO越薄，透光率越好，但信噪比 更差。用PET (透明塑料，主要制造礦泉水瓶)作基板時，線寬通常是100 ~200jim，可以 使用絲網印制、光蝕刻或激光切割，在PET上制作線寬30 ~5(Vm的網紋圖樣的工藝還在研 究中。

實際應用中，最下面還有第3層IT0用作屏蔽層以隔絕LCD的干擾，屏蔽層通常采 用150 ~300fi/□的方塊電阻。觸摸屏邊框上的信號線通常為鉬/鋁/鉬材料，同樣是采用真 空磁控濺射工藝在ITO濺鍍之后鍍上。