自從iPhone采用投射電容式觸摸屏以來,短時間內涌現了大量結構設計方案。投射電 容式觸摸屏的特點是,感應器在觸摸屏表面以下,外覆有保護玻璃。一些正在開發的新產品 采用了單面設計,即所有的感應層都設計在單一基板的一面上。
在這個目前最薄的投射電容 式觸摸屏設計中,每一層采用積層濺射工藝?;趦蓪油该鲗щ妼拥耐渡潆娙菔接|摸屏的基 本原理,在設計上可以作出各種變化。
例如,用超微細(lO^ni)導線可以替代某層,從而 少濺射一層ITO。目前市面上的絕大多數手機和簽名采集板在不同PET層上鍍有IT0,此外 常見的觸摸屏也是使用雙面鍍層或在兩層基板上單面鍍層的ITO鍍層玻璃。
(1) 膜層圖樣
在投射電容式觸摸屏中,ITO膜可以設計蝕刻成各式各樣,但制造成本是一樣的,并且 由于觸摸傳感器和電子控制系統的高度相關性,很難說哪種圖樣優于其他圖樣。
早期iPhone的投射電容式觸摸屏采用的圖樣是最簡單的一種:玻璃兩面的IT0前面蝕 刻成10列、線寬lram、間距5mm的列排列層,背面蝕刻成15行、線寬5mm、間距37^m 的行排列層,列排列層10列之間保留了不連線(孤立)的條以保持統一的光學效果。這種 設計對工藝要求簡單,但需要控制器的處理能力強以生成精確坐標。
最常見的圖樣是連鎖菱形(實為正方形45°斜放),這種圖樣的電極島之間連接可靠 (連線最短),且最大程度充分利用了屏幕面積來感應手指電容,菱形圖樣分成互補的兩層, 一層是水平菱形行,一層是垂直菱形列,導線交叉部位像小橋。
菱形島的尺寸大小取決于制 造商,通常在4 ~8mm之間,目前大部分投射電容式觸摸屏都采用菱形圖樣。
(2) 觸摸屏導體方塊電阻通常采用15011/口(單位為n/(m2*mil))的ITO涂層玻璃加工,要形成線 寬20pm的圖樣,需要用光蝕刻技術完成,比如在LCD面板廠工藝上使用的光刻消融劑。
ITO越厚,電阻越小,信噪比越好,但是透光率差;反之ITO越薄,透光率越好,但信噪比 更差。用PET (透明塑料,主要制造礦泉水瓶)作基板時,線寬通常是100 ~200jim,可以 使用絲網印制、光蝕刻或激光切割,在PET上制作線寬30 ~5(Vm的網紋圖樣的工藝還在研 究中。
實際應用中,最下面還有第3層IT0用作屏蔽層以隔絕LCD的干擾,屏蔽層通常采 用150 ~300fi/□的方塊電阻。觸摸屏邊框上的信號線通常為鉬/鋁/鉬材料,同樣是采用真 空磁控濺射工藝在ITO濺鍍之后鍍上。